Hafnium tetrachlorid | Powder HFCL4 | CAS 13499-05-3 | Pri faktori

Kout deskripsyon:

Hafnium tetrachlorid gen aplikasyon enpòtan kòm yon précurseur nan oksid hafnium, katalis pou sentèz òganik, aplikasyon pou nikleyè, ak depozisyon fim mens, en adaptabilite li yo ak enpòtans nan divès jaden teknolojik.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Voye imèl ba nou

Detay Product

Tags pwodwi

Deskripsyon pwodwi

Brief entwodiksyon

Non pwodwi: Hafnium tetrachlorid
CAS Non.: 13499-05-3
Fòmil konpoze: HFCL4
Pwa molekilè: 320.3
Aparans: poud blan

Spesifikasyon

Sijè	Spesifikasyon
Aparisyon	Poud blan
Hfcl4+zrcl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤ 5ppm
Al	≤60ppm

Aplikasyon

Hafnium diyoksid précurseur: Hafnium tetrachlorid se sitou itilize kòm yon précurseur yo pwodwi dyoksid hafnium (HFO2), yon materyèl ki gen pwopriyete ekselan dielèktrik. HFO2 se lajman ki itilize nan gwo-K aplikasyon pou dielèktrik pou tranzistò ak kondansateur nan endistri a semi-conducteurs. HFCL4 se esansyèl nan fabrike nan aparèy elektwonik avanse akòz kapasite li nan fòme fim mens nan gaz hafnium.
Katalis sentèz òganik: Ka tetrachlorid hafnium dwe itilize kòm yon katalis pou divès kalite reyaksyon sentèz òganik, espesyalman polimerizasyon olefin. Pwopriyete asid Lewis li yo ede fòme entèmedyè aktif, kidonk amelyore efikasite reyaksyon chimik yo. Aplikasyon sa a gen anpil valè nan pwodiksyon Polymers ak lòt konpoze òganik nan endistri chimik la.
Aplikasyon nikleyè: Akòz segondè li yo neutron absòpsyon koup transvèsal, hafnium tetrachlorid se lajman ki itilize nan aplikasyon pou nikleyè, espesyalman nan baton kontwòl nan réacteurs nikleyè. Hafnium ka efektivman absòbe netwon, kidonk li se yon materyèl apwopriye pou reglemante pwosesis la fisyon, ki ede amelyore sekirite a ak efikasite nan jenerasyon pouvwa nikleyè.
Depozisyon fim mens: Tetrachlorid Hafnium yo itilize nan pwosesis depo chimik vapè (kardyovaskulèr) yo fòme fim mens nan materyèl ki baze sou hafnium. Fim sa yo esansyèl nan yon varyete aplikasyon pou, ki gen ladan mikwo -elektwonik, optik, ak penti pwoteksyon. Kapasite nan depoze inifòm, fim-wo kalite fè HFCL4 valab nan pwosesis manifakti avanse.